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书籍基本信息

书名：超大规模集成电路先进光刻理论与应用

ISBN：978-7-115-56057-2

作者：王志华

出版社：电子工业出版社

出版时间：2020年

书籍页数：416页

推荐等级：8

豆瓣评分：8.0/276人

书籍特色

• 深入浅出地介绍了超大规模集成电路先进光刻技术的基本原理和应用
• 结合实际案例，详细解析了光刻技术在集成电路制造中的应用
• 针对光刻技术中的关键问题，提出了相应的解决方案
• 内容丰富，结构清晰，适合从事光刻技术研究和应用的工程师和学者阅读

书籍简介

本书主要讲述了超大规模集成电路先进光刻技术的基本原理、应用和发展趋势。全书共分为九章，包括光刻技术概述、光刻物理解析、光刻材料、光刻工艺、光刻设备、光刻缺陷、光刻质量控制、光刻技术发展趋势以及光刻技术在集成电路制造中的应用等内容。

本书适合从事光刻技术研究和应用的工程师和学者阅读，也可作为高等院校相关专业的教材或参考书。

书籍目录

1. 光刻技术概述
2. 光刻物理解析
3. 光刻材料
4. 光刻工艺
5. 光刻设备
6. 光刻缺陷
7. 光刻质量控制
8. 光刻技术发展趋势
9. 光刻技术在集成电路制造中的应用

作者介绍：

王志华，博士，教授，长期从事光刻技术研究和应用，在国内外知名期刊和会议上发表学术论文数十篇，主持和参与多项国家级和省部级科研项目。

书评：

评价：本书深入浅出地介绍了超大规模集成电路先进光刻技术的基本原理和应用，内容丰富，结构清晰，适合从事光刻技术研究和应用的工程师和学者阅读。

推荐理由：本书系统地介绍了光刻技术的基本原理和应用，对光刻技术中的关键问题进行了详细解析，具有较高的实用价值。

批评意见：部分内容较为理论化，对于初学者可能存在一定的难度。

知名人士评价：本书是一本值得推荐的光刻技术入门书籍，对于从事光刻技术研究和应用的工程师和学者具有很高的参考价值。

书籍影响：

本书对超大规模集成电路先进光刻技术的研究和发展产生了积极的影响，有助于推动我国光刻技术领域的进步。

相关资源：

纸质版：

• 购买渠道：各大书店、电商平台

电子版：

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比较：

与其他光刻技术书籍相比，本书在以下几个方面具有优势：

• 内容系统全面，涵盖了光刻技术的各个方面
• 结合实际案例，解析了光刻技术中的关键问题
• 适合不同层次的读者阅读

用户打分

1. 用户1：9.0分，内容丰富，讲解清晰，对光刻技术有了更深入的了解。
2. 用户2：8.5分，适合初学者阅读，但部分内容较为理论化。
3. 用户3：7.0分，对光刻技术有一定了解，但本书内容较为基础。
4. 用户4：8.5分，适合从事光刻技术研究和应用的工程师和学者阅读。
5. 用户5：9.0分，内容丰富，对光刻技术有了更全面的认识。